资讯
英特尔与阿斯麦推进高NA EUV量产,已处理超100万片晶圆
📋总体概括
英特尔晶圆代工与阿斯麦宣布共同推进高NA EUV光刻的量产应用,英特尔已处理超100万片晶圆,高NA EUV已实际用于酷睿Ultra 3系列Panther Lake处理器的部分量产层级。英特尔称18A制程采用高NA EUV的层级性能达到或超过传统0.33 NA EUV平台,双方还将推动6英寸光罩向6×12英寸大尺寸过渡,并通过光罩拼接技术降低迁移门槛。这是高NA EUV从实验室走向规模量产的关键节点,也意味着先进制程竞赛的成本与门槛进一步抬高。
⚡关键信息
- ▸英特尔已通过高NA EUV处理超100万片晶圆,覆盖早期设备认证、研发及部分量产环节
- ▸高NA EUV已用于酷睿Ultra 3系列Panther Lake处理器部分层级的量产
- ▸英特尔18A制程采用高NA EUV的层级性能达到或超过传统0.33 NA EUV平台
- ▸双方推进光罩从6英寸向6×12英寸过渡,并借光罩拼接让6英寸光罩客户部分受益
🔥犀利点评
高NA EUV喊了这么多年,英特尔终于交出「100万片晶圆」的量产答卷,但注意措辞——只是「达到或超过」传统0.33 NA,说明短期内高NA更多是技术占位而非碾压式优势。真正的看点在Panther Lake的实际良率和成本:单台高NA光刻机造价数亿美元,若无法兑现性能溢价,先进制程就是烧钱游戏。英特尔18A成败在此一举,光罩拼接的过渡方案也侧面印证:全行业真正切换大光罩还有很长距离。
📰 相关资讯(与本文相关的其他资讯)
本文由本站自动聚合,以下为原始来源:前往 36氪快讯 阅读全文 →